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国内首台自主知识产权光刻机将面世

2007-11-21新华网本文被阅读过7327次[推荐][打印][保存][大字体][中字体][小字体]
  国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将在合肥面世,标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。

  记者从位于合肥市经济开发区的芯硕半导体(合肥)有限公司了解到,该公司生产的两台直写式光刻机样机已进入最后的总装调试阶段,12月底将面世。据介绍,与目前国际上同类产品相比,其生产的直写式光刻机分辨率达到亚微米级,且产能较高,达到了世界领先水平。

  据悉,光刻机是半导体设备里最关键的设备之一,每一代半导体技术的发展都是以光刻线宽为代表。但目前在中国,生产用光刻机完全依赖进口,国产品牌的亚微米级光刻机还是空白。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机具有中国自主知识产权,将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。

(作者:熊润频)
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